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采用Plasma 3000电感耦合等离子体发射光谱法(ICP-OES)测定1100锻造铝中的多元素含量

April 09, 2026
Dilama

采用等离子体3000型电感耦合等离子体发射光谱法(ICP-OES)测定1100型锻造铝中的多元素含量

变形铝.png

1100铝材是指采用塑化工艺生产的纯铝半成品(例如板材、带材、箔材),其铝含量不低于99.00%。作为工业领域不可或缺的基础材料,其超高纯度使其成为满足导电导热、耐腐蚀、耐腐蚀性、深成形和表面处理等性能要求的关键载体。1100铝材具有优异的综合性能,广泛应用于食品包装、电子元件、建筑装饰、化工容器、热交换和反射设备等众多核心领域。它如同工业的“粮食”和“基石”,为现代制造业和日常生活提供可靠且用途广泛的材料支撑。

本实验中,将1100号锻造铝样品置于加热板上进行消解,并使用Plasma 3000型电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-OES)测定其多元素含量。该方法可同时测定多种元素,具有操作简便、分析周期短、稳定性好、灵敏度高、准确度高等优点。

01#试剂、材料和设备

Plasma 3000 ICP-OES.webp

样品制备和预处理

准确称取0.2 g样品(精度为0.0001 g)于聚四氟乙烯(PTFE)烧杯中,加入盐酸和硝酸,在加热板上进行消解。消解完成后,取出烧杯冷却,转移消解液,定容至50 mL,混匀,备用。采用纯铝基质匹配法绘制标准曲线。

仪器和设备参数

仪器运行参数

价值观

仪器运行参数

价值观

射频功率/瓦

1050

辅助气体流量/升·分钟-1

0.5

冷却气体流量/升·分钟-1

13.5

蠕动泵转速/RPM

20

载气流速/L•min-1

0.80

曝光时间/秒

8

02# 结果与讨论

待确定要素的选择

在测定过程中,遵循了低含量元素使用高灵敏度谱线、高含量元素使用低灵敏度谱线的原则。通过综合考虑基体干扰和背景校正,为每种元素选择最佳分析谱线。由于已进行基体匹配,因此分析谱线的确定仅需考虑光谱干扰和背景效应。选择灵敏度高且不受共存元素干扰的谱线作为分析谱线。为了提高灵敏度,对大多数低含量元素的测定采用了背景扣除法。

Fe 1.pngFe 2.png

铁元素光谱和工作曲线

Si 1.pngSi 2.png

元素光谱和工作曲线

Cu 1.pngCu 2.png

铜元素光谱和工作曲线

2:光谱线选择及元素测定条件

表2.jpeg

根据上述元素的光谱和线性关系,均符合方法学要求,满足测试需求。

检测限

在仪器的最佳操作条件下,对标准溶液系列空白溶液进行了11次连续测定。该方法中待测元素的检出限计算为标准偏差的3倍,如表3所示。

3方法检测限测试数据

表3.jpeg

准确性

对铝合金标准参考物质AL 124/04中的多种元素进行了七次平行重复测定。所有样品的测量值均在标准参考物质的不确定度范围内,表明测定结果具有极佳的准确度。详细的测定结果见表4。

4方法检测限测试数据

表4.jpeg

本研究采用Plasma 3000电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-OES)分析铝合金标准参考物质AL 124/04中的多种元素。该方法能够同时测定多种元素,具有操作简便、分析时间短、稳定性好、灵敏度高、准确度高等优点,能够满足1100锻造铝元素分析的要求。

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